Chef der Halbleitersparte von Zeiss: China 15 Jahre von EUV-Lithografie entfernt
TL;DR
KI-generiert
China benötigt laut dem Chef der Halbleitersparte von Zeiss, Frank Rohmund, voraussichtlich 15 Jahre, um eigene EUV-Lithografiegeräte zu entwickeln. Dies entspricht dem Stand von ASML im Jahr 2004.
Quelle: heise.de
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